天津一汽丰田汽车有限公司中国大型中外合资企业天津一汽丰田汽车有限公司（中文简称：天津一汽丰田，英文简称：TFTM）是国家商务部批准成立的大型中外合资企业，出资方为中国第一汽车集团有限公司、天津一汽夏利汽车股份有限公司、丰田汽车公司和丰田汽车（中国）投资有限公司，中外股比为50%：50%。天津一汽丰田成立于2000年6月，目前生产能力为年产42万辆。公司前身为2000年6月成立的天津丰田汽车有限公司

无定形碳碳的同素异形体中的一大类无定形碳又称为过渡态碳，是碳的同素异形体中的一大类。无定形碳即指那些石墨化晶化程度很低，近似非晶形态（或无固定形状和周期性的结构规律）的碳材料，如炭黑等。在炭素材料学历史上，曾与石墨、金刚石并立，被认为是碳元素三种存在状态之一。

离子注入材料表面改性技术离子注入是指当真空中有一束离子束射向一块固体材料时，离子束把固体材料的原子或分子撞出固体材料表面，这个现象叫做溅射；而当离子束射到固体材料时，从固体材料表面弹了回来，或者穿出固体材料而去，这些现象叫做散射；另外有一种现象是，离子束射到固体材料以后，受到固体材料的抵抗而速度慢慢减低下来，并最终停留在固体材料中的这一现象叫作离子注入。

碳60非金属单质碳60（Fullerene），非金属单质，化学式C60。是一种由60个碳原子构成的分子，形似足球，又名足球烯。C60是单纯由碳原子结合形成的稳定分子，它具有60个顶点和32个面，其中12个为正五边形，20个为正六边形。其相对分子质量约为720。

李轶本词条是多义词，共13个义项天津大学理学院化学系副教授李轶，女，1979年8月出生，现任天津大学理学院化学系副教授。

化学气相沉积制备材料的气相生长方法化学气相沉积是一种制备材料的气相生长方法，它是把一种或几种含有构成薄膜元素的化合物、单质气体通入放置有基材的反应室，借助空间气相化学反应在基体表面上沉积固态薄膜的工艺技术。

于宏兵于宏兵，出生于吉林省长春市，南开大学清洁生产中心主任；南开大学环境科学与工程学院环境工程系主任；兼任国家清洁生产中心企业审核部主任、研究员，国家环境学会专家工作组成员。CRT资源综合利用行业工程实验室主任；国家清洁生产与循环经济研究中心客座研究员；国家节能中心专家委员会评审专家；国家环境学会咨询评估委员会委员；天津市清洁生产专业委员会副主任天津（国家）子牙循环经济静脉产业区管委会副主任；20

王恩哥，1957年1月出生于辽宁省沈阳市，物理学家、中国科学院物理研究所所长、北京凝聚态物理国家实验室（筹）主任、中国科学院副秘书长、中国科学院研究生院常务副院长、中国科学院数理学部院士、第三世界科学院院士、北京大学物理学院教授、中国科学院物理研究所研究员、北京科协副主席。

等离子体化学气相沉积等离子体化学气相沉积(plasmachemical vapor deposition)是指用等离子体激活反应气体，促进在基体表面或近表面空间进行化学反应，生成固态膜的技术。按产生等离子体的方法，分为射频等离子体、直流等离子体和微波等离子体CVD等。

物理气相沉积一种镀膜技术物理气相沉积，英文Physical Vapor Deposition，简称PVD。该技术指在真空条件下，采用物理方法，将固体或液体材料源表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体或等离子体，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。PVD技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子镀膜，应用较广的是离子镀。目前，物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金

红外光谱分析对物质分子进行的分析、鉴定红外光谱分析（infrared spectra analysis指的是利用红外光谱对物质分子进行的分析和鉴定。将一束不同波长的红外射线照射到物质的分子上，某些特定波长的红外射线被吸收，形成这一分子的红外吸收光谱。

电化学沉积电化学是研究化学现象与电现象之间的相互关系以及化学能与电能相互转化规律的学科。电化学沉积是指在外电场作用下电流通过电解质溶液中正负离子的迁移并在电极上发生得失电子的氧化还原反应而形成镀层的技术。在阴极产生金属离子的还原而获得金属镀层，称为电镀。在阳极发生阳极金属的氧化而形成合用的氧化膜，称为金属的电化学氧化，简称金属的电氧化。电化学沉积与化学镀的最大区别在于虽然都是在溶液中进行氧化还原反

俄歇电子能谱俄歇电子能谱（Auger electron spectroscopy，简称AES），是一种利用高能电子束为激发源的表面科学和材料科学的分析技术。因此技术主要借由俄歇效应进行分析而命名之。AES分析区域受激原子发射出具有元素特征的俄歇电子。外层电子填充空穴向内层跃迁过程中所释放的能量，可能以X光的形式放出，即产生特征X射线，也可能又使核外另一电子激发成为自由电子，这种自由电子就是俄歇电子

电弧放电专业术语电弧放电是专业术语，拼音为diàn hú fàng diàn，两个电极在一定电压下由气态带电粒子，如电子或离子，维持导电的现象。激发试样产生光谱。电弧放电主要发射原子谱线，是发射光谱分析常用的激发光源。

氮化硅重要的结构陶瓷材料氮化硅，化学式为Si3N4，是一种重要的结构陶瓷材料。它是一种超硬物质，本身具有润滑性，并且耐磨损，为原子晶体；高温时抗氧化。而且它还能抵抗冷热冲击，在空气中加热到1000℃以上，急剧冷却再急剧加热，也不会碎裂。正是由于氮化硅陶瓷具有如此优异的特性，人们常常利用它来制造轴承、气轮机叶片、机械密封环、永久性模具等机械构件。如果用耐高温而且不易传热的氮化硅陶瓷来制造发动机部件的

无定形碳碳的同素异形体中的一大类无定形碳又称为过渡态碳，是碳的同素异形体中的一大类。无定形碳即指那些石墨化晶化程度很低，近似非晶形态（或无固定形状和周期性的结构规律）的碳材料，如炭黑等。在炭素材料学历史上，曾与石墨、金刚石并立，被认为是碳元素三种存在状态之一。

特征峰用于鉴定官能团存在的峰用于鉴定官能团存在的峰称为特征吸收峰或特征峰（Characteristic Peak）。谱图中的吸收峰对应于分子中某化学键或基团的振动形式，同一基团的振动频率总是出现在一定区域。

离子注入材料表面改性技术离子注入是指当真空中有一束离子束射向一块固体材料时，离子束把固体材料的原子或分子撞出固体材料表面，这个现象叫做溅射；而当离子束射到固体材料时，从固体材料表面弹了回来，或者穿出固体材料而去，这些现象叫做散射；另外有一种现象是，离子束射到固体材料以后，受到固体材料的抵抗而速度慢慢减低下来，并最终停留在固体材料中的这一现象叫作离子注入。

CBN立方氮化硼立方氮化硼极其坚硬，显微硬度HV72000～98000Mpa，硬度低於钻石。和钻石相似，立方氮化硼是一种绝缘体但却是一种极佳的导热体。结构类似於钻石的氮化硼形态，也叫正方体氮化硼、c-BN、β-BN、或z-BN（以闪锌矿（ZincBlende）晶体结构命名），是被广泛使用的工业钻磨工具。

化学气相沉积制备材料的气相生长方法化学气相沉积是一种制备材料的气相生长方法，它是把一种或几种含有构成薄膜元素的化合物、单质气体通入放置有基材的反应室，借助空间气相化学反应在基体表面上沉积固态薄膜的工艺技术。

碳化硅（英文名：silicon carbide），分子式为SiC，是一种以共价键为主，碳、硅原子相互作用形成Sp杂化的非金属化合物。其外观颜色依据纯度有黄色、绿色和蓝黑色。依据其结构特点，因此碳化硅具有耐磨性强、弹性模量高、硬度强、耐腐蚀等特性， 被广泛应用于磨料、耐火材料、化工等多个领域。自然界发现的碳化硅含量较低，工业上所使用的碳化硅几乎都是人工合成的。

王恩哥，1957年1月出生于辽宁省沈阳市，物理学家、中国科学院物理研究所所长、北京凝聚态物理国家实验室（筹）主任、中国科学院副秘书长、中国科学院研究生院常务副院长、中国科学院数理学部院士、第三世界科学院院士、北京大学物理学院教授、中国科学院物理研究所研究员、北京科协副主席。

碳化硼最坚硬的三种材料之一碳化硼（boron carbide ），别名黑钻石，分子式为B₄C，通常为灰黑色微粉。是已知最坚硬的三种材料之一（其他两种为金刚石、立方相氮化硼），用于坦克车的装甲、避弹衣和很多工业应用品中。它的摩氏硬度为9.3。它在19世纪作为金属硼化物研究的副产品被发现，直到1930年代才被科学地研究。碳化硼可由电炉中用碳还原三氧化二硼制得。碳化硼可以吸收大量的中子而不会形成任何放射

物理气相沉积一种镀膜技术物理气相沉积，英文Physical Vapor Deposition，简称PVD。该技术指在真空条件下，采用物理方法，将固体或液体材料源表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体或等离子体，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。PVD技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子镀膜，应用较广的是离子镀。目前，物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金

甲基蓝一种芳香杂环化合物甲基蓝又称油脂蓝、棉蓝、溶剂蓝8B、酸性蓝93、品蓝，是一种芳香杂环化合物。分子式C37H27N3Na2O9S3。被用作生物染色剂，用于动物组织学中原生动物活体、细菌、神经细胞的染色。医用消毒剂。