正文

目前了，硅片抛光均使用二氧化硅抛光液，其它如氧化铬、氧化错、氧化镁及铜离子抛光液已很少使用，这里不作介绍。二氧化硅抛光液一般由50~100nm 的二氧化硅颗粒的溶胶或凝胶和碱性的水溶液的体系组成。为改善硅片表面性能和稳定抛光液的颗粒分散性和悬浮性，还可掺入一些添加剂。抛光液中二氧化硅固体浓度一般在2%~10%。抛光工艺中有的要求粗抛，有的要求精抛，故有粗抛液和精抛液之分。粗抛液颗粒尺寸稍大些,pH 值一般在9.0~9.5;精抛液颗粒尺寸稍小些,pH 值为10.5~11.0。