中国科学院光电技术研究所（Institute of Optics and Electronics, Chinese Academy of Sciences ）简称“光电所”，始建于1970年，是中国科学院在西南地区规模最大的研究所。1999年进入中国科学院知识创新工程试点，2006年进入创新三期，并被评估确定为科学院A类（优秀）研究所。

光电所主要研究领域及学科方向包括：光电跟踪测量、光束控制、自适应光学、天文目标光电观测与识别、先进光学制造、航空航天光电设备、微纳光学及微电子光学、生物医学光学等。

光电所建有微细加工光学技术国家重点实验室、中国科学院光束控制重点实验室、中国科学院自适应光学重点实验室、中国科学院空间光电精密测量技术重点实验室，和光电工程总体研究室等10个创新研究室，以及中科院成都几何量及光电精密机械测试实验室；还建有精密机械制造、先进光学研制、轻量化镜坯研制、光学工程总体集成、质量检测等5个研制中心，以及科技信息中心等技术保障中心。[5]

中文名

中国科学院光电技术研究所

外文名

Institute of Optics and Electronics, Chinese Acade

成立时间

1970年

主管部门

中国科学院

主要奖项

国家技术发明一等奖2项

历史沿革

中国科学院光电技术研究所

中国科学院光电技术研究所筹建于1969年，1970年6月起在成都大邑县雾山乡动工兴建，初名中国人民解放军1019所。

1973年4月长春光机所进行人员分迁，1973年7月正式投入科研试制工作，共建有6个研究室和6个试制加工车间，在编职工1200余人，开始试制第一代160数字式电影经纬仪。

1975年12月更名为中国科学院光电技术研究所，光电所向用户移交了首批成功试制的两台第一代160数字式电影经纬仪。

1977年12月，第一届光电学术委员会成立，向中国科学院上报了1978-1985年科研发展规划，提出了科研主攻方向是光测设备、大规模集成电路（LSI）装备攻关项目。

1979年，光电所决定于四川省成都市南郊双流县兴建新址，并于1988年完成全所整体搬迁工作。

1980年开展了自适应光学领域的研究，并组建了中国首个自适应光学实验室，现在该实验团队已经发展为国际最大的自适应研究团队，自适应光学也成为目前光电所最重要的研究方向之一。

80年代中期，光电所在光电捕获跟踪测量技术和自适应光学技术的基础上，开始了激光光束控制技术的研究，并在90年代建成了国家863计划光束控制重点实验室、国家863计划自适应光学重点实验室。实验室拥有中国一流的人才队伍和领先的技术，参与完成了多次重大科学试验，奠定了光电所在该领域不可替代的地位。

1981年，光电所研制成功中国首台光刻机，该光刻机于1983年荣获中国科学院科技进步一等奖。

1985年，中国首台具有激光、红外和电视三种自动跟踪和测量手段的778光电经纬仪研制成功，并成为获得国家科技进步特等奖的重要子项目，这是中国第四代经纬仪的代表，标志中国光电跟踪测量设备跻身世界先进水平。随后，778的跟踪测量技术被广泛推广应用，显著推动了中国光电工程和光电跟踪的技术进步。

1986年，自适应光学在世界上首次应用于激光核聚变装置（ICF）神光I号光束控制。

90年代末研制成功的新型红外电视跟踪经纬仪实现出口，为中国高精度光电跟踪经纬仪由进口向出口的历史转变做出了重要贡献。

1993年，被誉为中国电子十大科技成果之一的中国首台g线光刻机——1.5-2微米实用型分步重复投影光刻机在光电所横空出世；

1994年，美国才开始将这项技术用于其国家点火装置原理样机中，并称是中国率先使用；1.2米望远镜可见光自适应光学系统于1990年在中国首次实现对星体目标的实时补偿校正，使中国成为世界上第三个实现这一目标的国家。

产业园

1997年，光电所首批通过中科院科研基地型研究所定位评估；光电所自主研发0.8-1微米分步重复投影光刻机，是中国目前完全自主研发的唯一一台做出过器件的光刻机。

1999年，光电所微细加工光学技术国家重点实验室、国家863计划光束控制重点实验室、国家863计划自适应光学重点实验室率先进入中国科学院知识创新工程试点一期。

2001年，全所整体进入创新试点二期，在此后十余年内，光电干扰与防护、微纳光学、航空航天光电、天文目标观测、生物医学光学等新兴学科在光电所如雨后春笋般涌现，形成了以国民经济发展和国家安全的战略需求为牵引，面向世界光电科技领域发展前沿，重点开展光电工程应用基础性、前瞻性、战略性高技术研究与系统集成创新研究的格局。蓬勃发展的科技事业培养出了一支中国一流的科研团队，胡锦涛、李长春、李岚淸等多位党和国家领导人先后视察光电所，并对光电所寄予厚望。

2018年11月29日，由中国科学院光电技术研究所承担的国家重大科研装备“超分辨光刻装备项目”在成都通过验收，作为项目重要成果之一，可加工22纳米芯片，中国科学家研制成功世界上首台分辨力最高的紫外超分辨光刻装备，并形成一条全新的纳米光学光刻工艺路线，具有完全自主知识产权。[1]

机构介绍

中国科学院光电技术研究所（简称光电所）始建于1970年。建所以来，围绕国家重大战略需求，聚焦世界科技前沿开展光电领域基础性、前瞻性、颠覆性的创新研究，逐步成为国家科技战略体系中不可或缺的光电科技力量。申请专利1700余件，授权专利1000余件，发表论文5700余篇。

光电所在自适应光学、光束控制、微纳光学等领域取得了多项重大成就，先后取得包括国家科技进步特等奖在内的500余项科技成果，与此同时，广泛开展国内外学术交流与合作，多次承办国际先进光学制造和检测会议等国际学术交流活动。[5]

组织架构

如图[6]

组织架构

文化传统

所徽

所徽

“光电所”的标准色由蓝、红两色构成。

选择蓝色作为“光电所”的标准色，体现“光电所”在光电技术领域的博大精深。选择红色，象征着蓬勃向上的朝气和红红火火的发展前景；同时寄托着“光电所”致力向国际一流的现代研究所迈进的寓意。在视觉传播上，热烈、醒目，具有很强的识别性。

标志以凹镜、银色为主体。蓝色凹镜，寓指焕发科技之光的“光电所”；红色银河，神似轨道，寓指“光电所”集光电领域众多技术于一体的突出地位、包容万物的胸怀和追求卓越的奋斗足迹；内嵌白色弧形，寓指“光电所”执着创新的“光电精神”、办所方针和发展历程。

荣入“O、E”字母的“中”字造型，沉稳挺拔，取“中西合璧，光电世界”之义，使整体构思形神归一。鲜活红色，意蕴活力、信心和目标；深邃蓝色，意蕴科技、志向和追求。汲“光电精神”之精髓，标志富有强劲的科技感、扩张感、民族感、国际感和浓烈的现代时尚韵致，有力的凸显“光电所”面向机遇和挑战，致力于推进光电科技发展进程，为中国经济发展和国防建设做出基础性、战略性、前瞻性的创新贡献，迈向国际一流的现代研究所的辉煌前景。