毛思宁,男,出生于1963年8月8日,博士学位。毕业于北京大学物理系,IEEE的高级会员和应用物理学,应用物理信息,以及磁学IEEE的评审。IEEE技术委员会的成员,还担任 Intermag 和 TMRC组委会。美国华美信息存储协会资深顾问。2012年10月至今任宁波瑞纳森电子科技有限公司总经理(CEO)。

人物履历

1.  1984年7月毕业于北京大学物理系 获学士学位

2.  1987年7月毕业于北京大学技术物理系获硕士学位

3.  1987年8月—1990年8月,清华大学现代应用物理系讲师

4.  1990年8月—1995年8月,美国马里兰大学物理系获博士学位

5.  1995年6月—2006年9月,美国希捷 (Seagate)传感器发展经理/总监/高级总监

6.  2006年10月—2012年10月, 美国西部数据(Western Digital) 副总裁 (VP)

7.  2012年10月--          宁波瑞纳森电子科技有限公司总经理(CEO)

教育经历

学位(加注英文)时间国家院校专业
学士(B. S)1980.08-1984.07中国北京大学物理系
硕士(M. Sc)1984.08-1987.07中国北京大学技术物理系
博士(Ph.D)1990.08-1995.05美国马里兰大学应用物理系

工作经历

职务(加注英文)时间国家单位(加注英文)
研究助理(RA)1985.08-1987.07中国中国科学院物理研究所(Institute of physics  academy of science)
讲师/助教(Lecturer)1987.08-1990.07中国清华大学现代应用物理系(TsingHua University)
研究助理(RA)1990.08-1995.05美国马里兰大学应用物理系(Maryland)
博士后(Research Associate)1995.05-1995.07美国马里兰大学应用物理系(Maryland)
研发高级工程师(Sr.Advisory Engineer)1995.08-1998.08美国希捷公司(Seagate)
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主要研究工作领域

传感器技术研发,GMR和 TMR 磁头,以及 MEMS, NEMS,纵向和垂直磁记录硬盘驱动器产品研发。微电子与固体电子学,自旋与磁电子学,泛半导体器件。高科技产品技术研发和团队管理。

论文和专利:

公开发表论文170余篇,邀请讲座报告50余篇,主持多项研究课题. 拥有60多项磁性薄膜和器件的美国和国际颁发的专利。

兼职和荣誉:

西部数据(WD)副总裁,

IEEE的高级会员和应用物理学,应用物理信息,以及磁学IEEE的评审。IEEE技术委员会的成员,还担任 Intermag 和 TMRC组委会。美国华美信息存储协会资深顾问。

中国物理研究所和在新加坡的DSI特聘研究员及客座教授.

西部数据(WD)创新奖(2007-2011年)

希捷公司优秀的技术创新和成就奖(1999 -2006)

希捷公司“名人堂”奖2000/2003/2006年。

超过70的希捷科技成就奖(1995-2006年)。

代表性论著(论文)

发表时间论著(论文)名称发表载体论著(论文)作者
1989Preparation  of  BiSrCaCuO Superconducting FibersChinese Physics Letters 6(9), 409*Mao Sining, Hou Yujing, Huang Hesheng, Liu Menglin, Zhuo  Heping, Wang Ying, Hung Zelin, Bo Naibinig, and Zhang Kongshi,
1989“BiSrCaCuO Bulk Superconductors with Zero  Resistance above 110KIEEE  Transactions on Magnetics 25(2), 2017 (1989)H. S. Huang, *S.  N. Mao, Z. T. Yao, M. L. Liu, X. D. Ren, K. S. Zhang, X. Zhao, Y. Z. Liu,
1992Deposition and Reduction of Nd1.85Ce0.15CuO4-x  Superconducting Thin FilmsAppl. Phys. Lett. 61(19), 2356*S. N. Mao, X. X. Xi, S. Bhattacharya, Qi Li, T.  Venkatesan, J. L. Peng, R. L. Greene, J. Mao, D. H. Wu, and S. M. Anlage
1993Superconducting   Y2Cu3O7-x/ Nd1.85Ce0.15CuO4-y Bilayer  Thin FilmsAppl. Phys. Lett. 62(19), 2425*S. N. Mao, X. X. Xi, Qi. Li, I. Takeuchi, S. Bhattacharya,  C. Kwon, C. Doughty, A. Walkenhorst, T. Venkatesan, C. B. Whan, J. L. Peng,  and R. L. Greene
1994Superconducting and Structural Properties of  Nd1.85Ce0.15CuO4-y Thin Films on Perovskite and Fluorite SubstratesJ. Appl. Phys. 75(4), 2119  (1994).*S. N. Mao, X. X. Xi, Qi Li, T. Venkatesan, D. Prasad  Beesabathina, L. Salamanca-Riba, X. D. Wu,
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其他成就

超过70次的希捷科技成就奖(1995-2006年)。

希捷公司优秀的技术创新和成就奖(1999 -2006)

希捷公司“名人堂”奖(Hall of Fame)2000/2003/2006年。(附件6-1)

美国马里兰大学研究生科研创新奖(1995年)。

美国材料研究学会(MRS)研究生奖(波士顿,1993年)。

IEEE的高级会员(Sr. Member) 。

应用物理学(JAP),应用物理快报(APL),以及磁学IEEE Tran. Magn.的评审。

IEEE技术委员会的成员,还担任 Intermag, MMM, 和TMRC组委会成员。

中科院物理研究所客座教授(2005-2008)

新加坡的数据研究所(DSI)特聘研究员 (2005)

美国华美信息存储协会 (CAISS) 资深顾问。

兼职任中科院宁波材料和工程研究所客座研究员(2013.1 --   )

50余篇国际磁学大会(Intermag), 磁性和磁材料会议(MMM),磁存储年会(TMRC),Diskcon, PMRC,及其他国际会议上特邀或主题报告。